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五、CTP设备
5-2-2、光敏设备的特点
1、光敏CTP制版机结构一般采用内鼓式或平台式，选择可视激光(如He-Ne,FD-YAG
等)曝光，其波长短，光点扩散小，但能量较低，仅有单束激光二极管（250mw），一般
依靠增加激光转速（激光转镜采用高速马达，超过50000rpm）和多激光束来解决。
2、光敏CTP内鼓式制版机存在一些困难：
(1)加工精度要求苛刻，旋转马达难以严格在圆心轴移动；
(2)记录头高速转动（2万至4万），抗震性能差，容易吸附灰尘；
(3)光路长(几十厘米)且复杂，影响网点的精确性，对震动敏感，最多只能达
2540dpi；
(4)旋转马达和激光是价值连城的“心脏”；
(5)虽然光源成本较低，但是光学结构复杂，更换成本高昂；
(6)维护繁复且困难，使用成本比较高。
3、光敏CTP设备的优势与劣势：
(1)依靠光子量子效应和化学反应曝光，感光度高，制版速度相对较高，取决于曝光
量的大小；
(2)成像功率阈值不明显，曝光宽容度窄，相对来说局部存在软点，分辨力较高；
(3)有曝光量累积/记忆效应，必须在暗室/黄色安全灯下操作。
4、光敏CTP设备发展趋势及应用领域：
(1)发展趋势：纯水显影，但难以实现免后处理；
(2)应用领域：脱机直接制版（高速系统）。
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